產(chǎn)品詳情
一、設備概述
平行光源單面雙工位曝光機專門用于FILM黃光制程而設計制作的專用設備，
系統(tǒng)采用進口平行光源、雙工位抽屜進出曝光平臺交替工作進行FILM濕膜、干
膜曝光。雙工位平臺真空吸附將FILM與MASK貼緊，曝光解析度20UM。
二、設備規(guī)格以及主要技術指標
◆產(chǎn)品規(guī)格:有效曝光面積400MMx500MM
◆曝光平臺面積：500MMx600MM
◆產(chǎn)品規(guī)格:有效曝光面積400MMx500MM
◆曝光平臺面積：500MMx600MM
◆電源:?AC380V?3f?50HZ?7KVA
◆機臺外尺寸:?W1350MMxL3250MMxH2350MM
◆機臺外尺寸:?W1350MMxL3250MMxH2350MM
◆曝光方式:單面曝光玻璃VS玻璃x2組，采用電磁鎖控制
◆光學系統(tǒng):采用進口曲面MIRROR反射光學系統(tǒng)
◆冷卻系統(tǒng):燈管:外部冰水冷卻內(nèi)循環(huán)水.
臺面:強制氣冷式
◆曝光控制器:智慧型人機界面及曝光能量控制(能量模式及時間模式)
臺面:強制氣冷式
◆曝光控制器:智慧型人機界面及曝光能量控制(能量模式及時間模式)
◆真空系統(tǒng):400MMHG以上
◆燈源:UV能量積分器進行曝光能量設置和控制主動風冷式降溫保護
(有緊急停止保護)
◆空壓系統(tǒng):4-7KF/CM2,中12MM,?200L?/MIN
◆平行半角:DA<2。
◆曝光精度:線路寬30UM，線間距30UM
◆曝光精度:線路寬30UM，線間距30UM
◆曝光能量設置:365NM
◆點燈計時:配置時間計時器，可清零
◆點燈計時:配置時間計時器，可清零
◆平臺平面精度:0.02MM內(nèi)
◆平臺真空:平臺真空將FILM與MASK貼緊(使用鉻版時可不用）
◆平臺進出曝光區(qū):上下框架交替進出
◆平臺真空:平臺真空將FILM與MASK貼緊(使用鉻版時可不用）
◆平臺進出曝光區(qū):上下框架交替進出
◆機內(nèi)環(huán)境:?CL?ASS100內(nèi)
◆檢測系統(tǒng):程序及傳感器檢測動作到位狀況
◆燈管保護:燈室過熱檢知及門打開時UV燈強制熄滅
◆燈管保護:燈室過熱檢知及門打開時UV燈強制熄滅
