產(chǎn)品詳情
現(xiàn)在生產(chǎn)線上顯影液涂覆方法主要有兩種:日本HD產(chǎn)線傳送諧波CSF-25-160-2A-GR連續(xù)噴霧顯影和旋轉(zhuǎn)浸沒(méi)顯影。光刻膠顯影過(guò)程需要控制的主要工藝技術(shù)參數(shù)包括:顯影溫度、顯影時(shí)間、顯影液量、當(dāng)量濃度、清洗、排風(fēng)。
顯影后的熱烘培稱為堅(jiān)日本HD產(chǎn)線傳送諧波CSF-25-160-2A-GR膜烘培,目的是蒸發(fā)掉硅片光刻膠中剩余溶劑,從而使光刻膠變硬,提高光刻膠與硅片的粘附性。堅(jiān)膜過(guò)程也可以蒸發(fā)掉殘余在硅片上的顯影液和清洗用水。堅(jiān)日本HD產(chǎn)線傳送諧波CSF-25-160-2A-GR膜過(guò)程通常在硅片軌道系統(tǒng)的熱板上,或在生產(chǎn)線上的專(zhuān)用爐中完成。堅(jiān)膜溫度大致為:正膠130℃,負(fù)膠150℃。